Language:

FSM 薄膜应力量测设备 FSM 多层厚度量测设备

点图放大 联络勤友

设备介绍内容:
应力量测之目的
当薄膜沉积于不同热膨胀系数(coefficients of thermal expansion, CTE)材料时,就会生成薄膜应力(Film stress),此应力将影响薄膜附着于材料的状况。具备过高残留应力(Residual Stress)的材料在经过加热/冷却制程时,可能会因两贴合材料之热膨胀系数不同,导致接触面产生缺陷(defects),诸如:错位(dislocations)、剥离(delamination)、孔洞(voids),甚至是材料破裂(cracking)等问题发生。
为避免材料到制程后端才发现问题,除制程上须对薄膜沉积的均匀性、厚度进行控管外,用户可透过FSM薄膜应力量测设备,测量薄膜沉积后的残留应力,避免后续应力释放时导致的材料破坏,藉此提升生产良率、降低生产成本。

FSM应力量测设备特点

  • 提供精确的量测数据,径向扫描可量高达12,000点之数据
  • 双波长雷射切换技术,依材料表面特性自动切换合适之雷射波长,以获取最佳量测讯号
  • 量测范围广,于径向50~450mm范围内之产品,皆可使用此系列设备进行应力量测
  • 设备稳定性高,具备优异的量测重复性与再现性

FSM应力量测设备功能 (128/500/900)
FSM 128系列提供室温(Room Temperature)的应力量测解决方案;而500、900系列,可于各自的工作温度范围内进行升降温的应力量测,模拟实际制程升降温、SMT回焊、退火的温度曲线,确认产品制程的可靠度。
除产品基本的应力量测、升降温功能外,机台提供多元化的选配功能,用户可依需求自行选配机台附加功能,详见下表。

薄膜应力量测

 

128 Series

500 TC

900 Series

工作温度

室温

~ 500℃

~ 900℃

升温速率

X

最高35℃/min
建议以5℃/min 量测

薄膜反射率

V

应力滞留曲线

X

V

V

热膨胀系数CTE

X

V

V

热脱附光谱(TDS)*

X

X

V

薄膜电阻率

X

X

V

薄膜收缩状况

X

X

V

 

*热脱附光谱(TDS,Thermal Desorption Spectroscopy):根据不同温度下逸散的气体分子量,判断气体的种类。

FSM应力量测设备应用
广泛适用于半导体、电子、光学面板、玻璃等产业,可用于下列薄膜制程站点使用应力量测,进行可靠性的监控,其中,薄膜应力和晶圆弯曲度的测量是不可或缺的一部分:

  1. 物理气相沉积 (PVD, Physical Vapor Deposition):蒸镀(Evaporation)、溅镀(Sputtering)
  2. 化学气相沉积 (CVD, Chemical Vapor Deposition)
  3. 液体成膜法:使用酸蚀、电镀等方法。应用:玻璃上的二氧化硅(抗反射膜)
  4. 加热氧化法

详细规格与应用,欢迎来电或来信洽询。