連續式真空濺鍍設備（In-Line SPutter）及卷繞式真空鍍膜設備 (Roll to Roll Sputter），主要應用於觸控面板、減反射蓋板玻璃及薄膜太陽能相關製程，依不同需求提供客製化設計、製作與售後服務。

連續式真空鍍膜設備-卷繞式鍍膜

特點：

• 製程腔main Drum溫度可調整-20~80℃
• 多段式氣管設計，鍍膜均勻性佳
• roller 特殊設計、有效防止皺摺產生
• 收料區使用尋邊控制器，有效控制偏擺問題
• 遮板使用快拆設計，維護容易

應用：

• 薄膜光學材料：AR、IR、UV、建築材料
• 導電材料：觸控產業、軟式光電產品
• 光學轉換材料：PV Cell、熱吸收